无掩模光刻机

2022-08-28 09:44:00


仪器名称:无掩模光刻机                                  仪器编号:2019045984

采购日期:2019-12-02                                    采购价格:978,000元

管 理 员:******                                               生产厂家:

联系电话:                                                       E-mail:

仪器地址:材料环境楼A106                              所属分组:综合性分析平台

规格型号:Microlab 4A-100 Plus                    设备状态:正常

性能指标及应用范围:

性能指标:

(1) 配置532 nm 单纵模激光器,功率≥30 mW;

(2)数字化功率控制系统,软件控制532功率连续可调(无需改变激光器电压),内置激光功率计和反馈系统,通过软件可以直接输入样品表面功率,可调精确度≤0.1 mW;

(3) 配置10X, 50X,50X长焦物镜(数值孔径≧0.55,工作距离大于9mm)和100x(NA="0.9,工作距离≧300nm);

(4) 配置XYZ自动平台,扫描范围大于50mm*50mm, 最小步长100 nm。Z轴移动范围≥30 mm,最小步长小于15nm,可实现拉曼快速成像功能。

应用范围: 主要用于进行样品测试得到分子振动、转动方面信息,并应用于分子结构研究的一种分析方法。