无掩膜板紫外光刻机

2022-08-27 05:58:00


仪器名称：无掩膜板紫外光刻机

仪器编号：

采购日期：

采购价格：

管 理 员：******

生产厂家：赫智科技(苏州)有限公司

联系电话：

E-mail：

仪器地址：理科生命楼B226

所属分组：材料制备与加工平台

规格型号：

设备状态：正常

性能指标及应用范围：

性能指标：

（1）特征线宽： 1.0μm。

（2）光刻效率：200mm2/min（50%DC)。

（3）套刻精度：350nm。

（4）XY行程：150nm。

（5）样品尺寸(最小）：3mm×3mm

（6）样品尺寸(最大）：6 inch wafer。

应用范围：主要应用于半导体器件的研发与制备。